產品型號
| 型號|項目 | 餾程℃ | 閃點±2℃ | 揮發速度 @25℃ | 干燥方式 | 超聲波設備 | 真空設備 | 加熱溫度℃ |
CH1140SL | 125℃-200℃ | 35℃ | 13min-21min | 自然/熱風/真空 | 佳 | 極佳 | 常溫~35℃ |
CH1165SL | 170℃-200℃ | 60℃ | 33min-41min | 熱風/真空 | 佳 | 極佳 | 常溫~60℃ |
電鍍行業替代除蠟水獨家專利產品
清洗后可直接進入電鍍工序；
揮發少、可循環使用、符合環保要求、綜合成本低；
除蠟水、三氯乙烯理想替代品；
新球開創了碳氫清洗劑除蠟的先例，并幫助真空鍍和水電鍍行業，解決了環保除蠟清洗技術難題；
應用領域
適用于五金衛浴、鐘表電鍍、眼鏡制造、首飾加工、燈飾制造、高爾夫制造、不銹鋼制造等行業。
清洗材質：鋁、銅、鋅、鎂等有色金屬（合金）、不銹鋼制品、碳鋼等。
清洗油污：石蠟、拋光蠟、蠟質油、污漬油垢、乳化切削加工液等。
